賽達凈化工程造價便宜(圖)-手術室凈化工程-怒江凈化工程

亂流式 (turbulent flow)
優點：構造簡單、系統建造成本低，潔凈室的擴充比較容易，在某些特殊用途場所，手術室凈化工程，可并用無塵工作臺，提高潔凈室等級。
缺點：亂流造成的微塵粒子于室內空間*浮不易排出，易污染制程產品。另外若系統停止運轉再啟動，欲達需求之潔凈度，往往須耗時相當長一段時間。
賽達凈化堅持秉承以科技為先導、以市場為導向的科學管理理念，憑借規范化管理及的技術力量在食品、藥品、化妝品、微電子等諸多工業領域設計承建了潔凈sc廠房、gmp廠房、無菌室、實驗室及相關配套產品。我們的宗旨：！誠信！！
氣壓規定
對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染*，需要保持內部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則：
1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。
2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。
潔凈室中的溫濕度控制
潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的*度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，萬級凈化工程，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，怒江凈化工程，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規模集成電路生產的光刻*工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，廠房凈化工程，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高，粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產的濕度范圍為35—45%。
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