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光刻膠介紹
光刻膠自1959年被發明以來一直是半導體核心材料，隨后被改進運用到pcb板的制造，并于20世紀90年代運用到平板顯示的加工制造。終應用領域包括消費電子、家用電器、汽車通訊等。
光刻工藝約占整個芯片制造成本的35%，nr9 1500py光刻膠哪里有，耗時占整個芯片工藝的40%~60%，是半導體制造中核心的工藝。
以半導體光刻膠為例，在光刻工藝中，光刻膠被均勻涂布在襯底上，經過*(改變光刻膠溶解度)、顯影(利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分)與刻蝕等工藝，將掩膜版上的圖形轉移到襯底上，形成與掩膜版完全對應的幾何圖形。
光刻技術隨著ic集成度的提升而不斷發展。為了滿足集成電路對密度和集成度水平的更高要求，半導體用光刻膠通過不斷縮短*波長以*限分辨率，nr9 1500py光刻膠廠家，世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級別，光刻膠的波長由紫外寬譜逐步至g線（436nm）、i線（365nm）、krf（248nm）、 arf（193nm）、f2（157nm），以及達到euv(lt;13.5nm)線水平。
目前，半導體市場上主要使用的光刻膠包括 g 線、i 線、krf、arf四類光刻膠，nr9 1500py光刻膠多少錢，其中，g線和i線光刻膠是市場上使用量較大的。krf和arf光刻膠核心技術基本被日本和美國企業所壟斷。
正性光刻膠
正性光刻膠
正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛，提供光刻膠的粘附性、化學*蝕性，當沒有溶解存在時，線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中，感光劑是光敏化合物，常見的是重氮萘醌（dnq）。在*前，dnq是一種強烈的溶解，降低樹脂的溶解速度。在紫外*后，dnq在光刻膠中化學分解，nr9 1500py光刻膠，成為溶解度增強劑，大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種*反應會在dnq中產生羧酸，它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度，所以生成的圖形具有良好的分辨率。
pcb
光刻膠
主要分為干膜光刻膠、濕膜光刻膠（又稱為*蝕刻/線路油墨）、光成像阻焊油墨等。pcb 光刻膠技術壁壘相對較低，主要是中低端產品。
lcd
光刻膠
包含彩色濾光片用彩色光刻膠及黑色光刻膠、lcd 觸摸屏用光刻膠、tft-lcd 正性光刻膠等產品。
彩色濾光片是lcd
實現彩色顯示的關鍵器件，占面板成本的14%~16%；在彩色濾光片中，彩色光刻膠和黑色光刻膠是核心材料，占其成本的27%左右，其中黑色光刻膠占彩色濾光片材料成本的6%~8%。
半導體光刻膠
包括g 線光刻膠、i 線光刻膠、krf 光刻膠、arf 光刻膠、聚酰ya光刻膠、掩膜板光刻膠等。
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